文：Tony
最近中國科技圈又有大突破！杭州誕生首台商用電子束光刻機「羲之」，由浙江大學研發團隊打造，直接把「中國刻刀」送入量子芯片最尖端。你常聽 EUV 光刻機與電子束光刻機究竟有何分別？
電子束光刻機「羲之」是用 100kV 高能電子束，細緻得可以在頭髮絲上雕刻出城市地圖，精度高達 0.6nm，線寬可微細到 8nm。比起大家常聽見的 EUV 光刻機，細緻度高於一倍有餘——ASML 的 High NA EUV 最細只能到 2nm。
電子束光刻（Electron Beam Lithography，EBL）背後原理是什麼？它靠電子束高能轟擊專用抗蝕劑，使分子鏈重組，然後電磁場精密控制移動軌道，將設計圖案直接「手寫」在基板上，大大方便芯片開發初期反覆修改、優化。這種「納米毛筆」畫法不用掩模，只要有創意，想改就改，極適合高端芯片迭代開發，以及小批量生產。
俗話有云慢工出細貨，電子束光刻機最大缺點就是速度不高。逐點逐線掃描，刻寫一片 12 吋，晶圓最長需時約 1 個月，EUV（Extreme Ultraviolet Lithography）用 13.5nm 極紫外光源配掩模版，每小時可完成上百片晶圓，可見電子束光刻機效率遠遠比不上 EUV 光刻機。現在需要大量生產 CPU、DRAM 這種商用大規模晶片，暫時還是使用 EUV 光刻機更有效率。
資料來源：cnyes
