文：Tony
在美方持續收緊半導體出口管制之下，中國正全力推動本土供應鏈自給自足。不過，全球晶片設備龍頭 ASML 的核心光學鏡頭供應商——德國蔡司（Zeiss）集團半導體業務負責人 Frank Rohmund 近日接受彭博電視訪問時指出，中國若要成功自主研發出最頂尖的極紫外光（EUV）光刻機，估計仍需要約 15 年的時間。
▲蔡司（Zeiss）集團半導體業務負責人 Frank Rohmund
獨家光學技術成研發最大壁壘
EUV 光刻機是製造高階人工智能（AI）晶片與先進處理器不可或缺的關鍵設備。作為 ASML 最主要的技術夥伴，蔡司負責為其 EUV 系統提供極高精度的光學鏡頭，而 ASML 目前更是全球唯一能商業化量產 EUV 機台的廠商。雖然中國近年在浸沒式深紫外光（DUV）設備上取得一定進展，但在微縮製程極限與極高精度的光學反射鏡技術上，西方龍頭企業仍握有難以跨越的專利與製造門檻。
出口限制反而刺激自主研發
Frank Rohmund 表示，儘管難以精確衡量中國目前的實際進度，但「15 年」是一個合理的時間估算。同時他也提到，過度擴大出口禁令未必能帶來預期的效益，反而會加速中國本土企業的自主創新速度。然而，現階段蔡司與 ASML 等行業巨頭在技術積累上依然保持顯著的領先優勢，其組件在全球晶片生產中依然佔據著絕對核心的地位。
追趕前行者仍需付出更多努力
不過需要注意的是，EUV 光刻機絕不會是尖端晶片製造工具的終點。15 年之後，業界預計又會誕生出其他更先進的尖端晶片製造技術與設備。對中國而言，要在這項領域上實現追趕，絕非單純「補齊現有落後」即可，相當於還要付出更多努力，才能在未來動態變化的半導體賽道中突破重圍。
資料來源：business-standard
