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蔡司高層表示中國大約 15 年可成功研發尖端晶片製造工具 EUV 光刻機
3 日前
蔡司半導體業務負責人Frank Rohmund指出，中國要自主研發出尖端極紫外光（EUV）光刻機，預估需約15年。主因在於EUV核心光學鏡頭技術門檻極高，涉及... (繼續閱讀)
不只無反相機打得火熱！Nikon 向 ASML 發動光刻機價格戰？
6 月 1 日
不少攝影人認識 Nikon，是由相機與 NIKKOR 鏡頭開始；但對 Nikon 這間公司來說，半導體曝光設備同樣是核心業務之一。然而，在今年四月剛剛走馬上任... (繼續閱讀)
厲害了我的國！國產電子束光刻機比 EUV 光刻機更強之處
2025 年 8 月 20 日
最近中國科技圈又有大突破！杭州誕生首台商用電子束光刻機「羲之」，由浙江大學研發團隊打造，直接把「中國刻刀」送入量子芯片最尖端。你常聽 EUV ... (繼續閱讀)
