文：Stephen
上星期 Fujifilm 在英國倫敦舉行今年度的 "X Summit" 大會，介紹 Fujifilm X 系統相機的未來動向，席中除了交待 APS-C 片幅旗艦機 X-T4 將會在今個月 26 日發表之外，Fujifilm 亦透露廠方正打算為 1 億像素的中片幅無反相機 GFX100 引入高達 4 億像素的高解像度拍攝模式。
Fujifilm 的工程師表示，GFX100 的全新高解像度拍攝模式將會用上微米級控制技術，相對現時其他廠商利用感光元件位移達至高解像度合成模式的精確度強 10 倍，令 GFX100 機主日後可以輕鬆得到 4 億像素的高解像度模式的影像。不過，Fujifilm 工程師在 "X Summit" 大會上沒有交代所謂的「微米級控制技術」，而且小編覺得「10 倍精確度」有機會存有一定的「水份」，事關官方仍未公佈「比較」的平台，或許最終現實效果，仍與工程師在實驗室的「理想」有一段距離。
